Поиск по сайту
 
Расширенный поиск
 

Вернуться назад

Атомно-слоевое осаждение тонких пленок

Учебный курс «Атомно-слоевое осаждение тонких пленок» предназначен для краткосрочного повышения квалификации преподавателей и научных работников высшей школы по направлению «Планарные материалы (пленки и покрытия, интерфейсы, молекулярные слои, гетероструктуры) и технологии их получения». Данный курс посвящен изучению метода атомно слоевого осаждения (АСО), получившего в последнее время широкое распространение как новый технологический метод, обеспечивающий рост тонких пленок высокого качества на больших площадях подложек. Суть метода заключается в раздельной попеременной подачи реагентов к подложке, так что химические реакции, приводящие к росту пленок, протекают строго с использованием только хемисорбированных слоев, т.е. с исключением реакций в газовой фазе. Использование реакций только в хемисорбированных слоях приводит к уникальным результатам по однородности, воспроизводимости и конформности формируемых слоев.

Учебный курс «Атомно-слоевое осаждение тонких пленок» предназначен для краткосрочного повышения квалификации преподавателей и научных работников высшей школы по направлению «Планарные материалы (пленки и покрытия, интерфейсы, молекулярные слои, гетероструктуры) и технологии их получения». Данный курс посвящен изучению метода атомно слоевого осаждения (АСО), получившего в последнее время широкое распространение как новый технологический метод, обеспечивающий рост тонких пленок высокого качества на больших площадях подложек. Суть метода заключается в раздельной попеременной подачи реагентов к подложке, так что химические реакции, приводящие к росту пленок, протекают строго с использованием только хемисорбированных слоев, т.е. с исключением реакций в газовой фазе. Использование реакций только в хемисорбированных слоях приводит к уникальным результатам по однородности, воспроизводимости и конформности формируемых слоев.

Целью данного курса является ознакомление с физическими основами технологии атомно-слоевого осаждения (АСО) тонких плёнок. На примере роста пленок диоксида титана демонстрируются возможности метода АСО для прецизионного управления толщиной, химического состава и структурой получаемых пленок. На примере осаждения оксида алюминия из триметилалюминия (ТМА) и воды проводится лабораторный практикум по развитию практических навыков по работе с современным технологическим оборудованием АСО тонких пленок и покрытий.

Учебный курс «Атомно-слоевое осаждение тонких пленок» состоит из дистанционной и очной частей. Дистанционная часть учебного образовательного курса обеспечивает слушателя необходимым объёмом знаний по выбранной тематике, включая подготовку слушателя к проведению лабораторного практикума. Задача дистанционной составляющей учебного курса — подготовить слушателя к очному посещению лаборатории в Московском физико-техническом институте. В дистанционной (теоретической) части учебного курса изложены физические основы метода атомно-слоевого осаждения (АСО), получившего в последнее время широкое распространение как новый технологический метод, обеспечивающий рост тонких пленок высокого качества на больших площадях подложек. Теоретическая часть учебного курса состоит из четырех лекций. В лабораторном практикуме предусматривается ознакомление с принципиальным устройством современной установки атомно-слоевого осаждения (АСО) Sunale R-150 компании Picosun (Финляндия), приобретение навыков по компьютерному управлению процессом АСО, проведение экспериментов по АСО тонких пленок оксида алюминия ( диоксида титана), проведение расчетов скорости роста пленок по модели плотной упаковки лигандов и сравнение рассчитанных величин с экспериментально наблюдаемыми.

Основные задания на лабораторный практикум:
— Разработать и заполнить в управляющем компьютере установки атомно-слоевого осаждения (АСО) Sunale R-150 технологический маршрут осаждения оксида алюминия;
— Провести эксперимент по АСО оксида алюминия (Al2O3) из триметилалюминия (ТМА, Al(CH3)3) и воды при температуре подложки 300 0С, количество циклов-500;
— по результатам определения толщины сформированной пленки оксида алюминия определить прирост толщины слоя за цикл ;
— Используя модель плотной упаковки лигандов рассчитать теоретическое значение прироста толщины слоя за цикл и сравнить его с экспериментально наблюдаемым.

  • Объем (в часах)
  • Шифр
  • Рекомендован для
  • Характер и сложность представленного материала
  • Требования
  • Пройти курс
  • НОЦ
  • Автор(ы)
  • Направления программ повышения квалификации

    Вернуться назад



    Реферативное содержание лекций:


     
     
    Объявления

    О создании федеральной инновационной площадки на базе порталов www.nano-obr.ru и www.nanoobr.ru

       С принятием Федерального закона № 273 «Об образовании в Российской Федерации» и появлением статьи 15. “Сетевая форма реализации образовательных программ”, а также cтатьи 16. “Реализация образовательных программ с применением электронного обучения и дистанционных образовательных технологий”, применение новых технологий обучения при подготовке кадров и повышении квалификации специалистов для наноиндустрии становиться актуальным. Статья 20. “Экспериментальная и инновационная деятельность в сфере образования” допускает экспериментальную деятельность по разработке, апробации и внедрению новых образовательных технологий, образовательных ресурсов в форме реализации инновационных проектов и программ, имеющих существенное значение для обеспечения развития системы образования, если они признаются федеральными или региональными инновационными площадками.


     05.09.2013

    О координирующей деятельности в образовательном сегменте ННС

    Координирующая деятельность в образовательном сегменте национальной нанотехнологической сети (ННС) поручена НИЯУ МИФИ и СПбГЭТУ ЛЭТИ (решение Совета ННС, протокол от 17 апреля 2013 г. № ИФ-13/14пр).


     04.09.2013

    28 ноября в МЭСИ состоялось совещание по вопросам электронного обучения в России.

    В работе совещания приняли участие заместитель Председателя Правительства Российской Федерации Ольга Голодец,Министр образования и науки Российской Федерации Дмитрий Ливанов, и другие.


     30.11.2012

    Уважаемые пользователи сайта!

    С учётом развития инфраструктуры образовательного сегмента национальной нанотехнологической сети (ННС) и сетевого межуниверситетского взаимодействия при междисциплинарной подготовке и профессиональной переподготовке кадров для наноиндустрии появился новый сайт www.nano-obr.ru  (анонс), в состав которого входят образовательные ресурсы, расположенные на www.e-learning.nanoobr.ru.


     18.11.2011

    Внимание!

    Регистрация новых слушателей, студентов, аспирантов, преподавателей вузов, учёных вузов и специалистов предприятий производится только на сайте www.nano-obr.ru.


     27.09.2011

    Конференции молодых учёных

    1) Традиционная IX Российская ежегодная конференции молодых научных сотрудников и аспирантов "Физико-химия и технология неорганических материалов"   http://www.m.imetran.ru

    2) Третья Всероссийская молодёжная конференция «Функциональные наноматериалы и высокочистые вещества» с элементами научной школы   http://www.func.imetran.ru

      

    О нас пишут

    На сайте (www.rusnor.org) Президент Нанотехнологического общества России (2010-2012 гг.) — Быков Виктор Александрович в статье «Подготовка кадров для наноиндустрии: государство или энтузиасты?»


     

     © 2009 НАНООБР
    Междисциплинарное обучение